南大光电股吧东方;南大光电21年目标价？京东南大光电东方财富股吧？南大光电2021分红派息利股指期货交割空？

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答：半导体职业始终是出资者很重视的职业，国家给予了大力的扶持，其间的南大光电股票是否值得购买呢，下面我就仔细的来打开剖析。预备叙述南大光电前，咱们先一起来看一下这份半导体职业龙头股名单，点击就能够收取：瑰宝资料！半导体职业龙头股一栏表

一、从公司视点来看

公司介绍：江苏南大光电资料股份有限公司首要从事先进前驱体资料、电子特气、光刻胶及配套资料三类半导体资料产品出产、研制和出售，是MO源工业化出产的企业,也是全球首要的MO源出产商，其首要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED资料等。南大光电依托企业自主立异渠道，全面推动研制立异才能建造，自主研制的多个产品取得"高新技能产品确定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。

大致叙述完南大光电后，下面咱们从南大光电做的好的当地开端剖析，看看它还值不值得出资。

亮点一：自主研制ArF光刻胶产品，加速公司光刻胶事务开展

公司成功自主研制出国内首支经过客户认证的ArF光刻胶产品，完结了国内ArF光刻胶从零到一的重大突破，而且公司现在已完结两条光刻胶出产线的建造，光刻胶年产能将达25吨。到现在，ArF光刻胶产品已收到小批量订单，因为光刻胶现在越来越国产化，光刻胶事务行将带动公司业绩，进入一个新的生长空间。

亮点二：多维度布局半导体资料，技能优势显着

电子特气方面，新一代安全源、混气产品相继工业化，最新晋级的超高纯砷烷产品品质在测验中已超越现在国际先进同行的技能水平，超高纯磷烷产品也踏进国际一流制程的芯片企业，公司氢类电子特气在国际现已遥遥领先了。MO源方面，公司经过提高MO源超纯化和超纯剖析技能完成了在第三代半导体范畴的新使用商场添加，高纯ALD/CVD前驱体产品也完成批量供货国内外先进半导体企业。碍于文章受限，这篇研讨报告把关于南大光电更深化的剖析和潜在危险都详细写了，点开便能看到：【深度研报】南大光电点评，主张保藏！

二、从职业视点看

十四五规划说到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持，这个肯定是有优点的。近年来，美国与其他国家相互合作对我国进行高科技封闭，对我国的设备和技能出口严厉搅扰和约束，这一行动也大大提高了国内半导体商场的技能国产化需求，也旁边面推动了国内半导体全工业链的开展。

光刻胶方面：在供应端中，晶圆厂扩产、疫情等多方面要素都对它有影响，光刻胶供应呈现出严重的局势。在需求端中，国内众多家国内晶圆厂也在活跃扩展产能，国内光刻胶需求量远大于本乡的出产量且差额逐年扩展，特别是在ArF、高端KrF等半导体光刻胶这一层面，光刻胶作为"卡脖子"产品在对国产代替方面的需求量在不断激增 。

归纳来说，半导体职业的开展关于国家而言至关重要，南大光电作为其间的佼佼者，开展的空间将非常大。但文章具有时滞效应，如若想要更精确地去得知南大光电未来行情，主张点击下方链接，就有专业的投顾为你诊股，瞧一瞧南大光电估值到底是什么状况：【免费】测一测南大光电现在是高估仍是轻视？

应对时刻：2024-12-09，最新事务改动以文中链接内展现的数据为准，请点击查看

半导体中心资料—光刻胶概述答：半导体中心资料：光刻胶概述如下：

光刻胶归于半导体八大中心资料之一，依据全球半导体职业协会（SEMI）最新数据，光刻胶在半导体晶圆制作资料价值占比5%，光刻胶辅助资料占比7%，二者算计占比12%。

光刻胶及辅助资料是继硅片、电子特气和光掩模之后的第四大半导体资料。本文首要就半导体中心资料光刻胶及其工业状况进行详细介绍。

1、光刻胶界说及首要成分

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等照耀或辐射，其溶解度发生改动的耐蚀剂刻薄膜资料，现在被广泛用于光电信息工业的微细图形线路加工制作环节。光刻胶由增感剂（光引发剂）、感光树脂（聚合剂）、溶剂与助剂构成。

1）增感剂（光引发剂）：是光刻胶的要害成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决议性效果。

2）感光树脂（聚合剂）：用于将光刻胶中不同资料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决议光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等根本特点。

3）溶剂：是光刻胶中最大成分，意图是使光刻胶处于液态，但溶剂自身对光刻胶的化学性质简直无影响。

4）助剂：通常是专有化合物，首要用来改动光刻胶特定化学性质。

2、光刻胶首要分类

依据使用范畴，光刻胶可分为半导体光刻胶、LCD光刻胶和PCB光刻胶，其技能壁垒顺次下降（半导体光刻胶> LCD光刻胶> PCB光刻胶）。

从国产化进程来看，PCB光刻胶现在国产代替进展最快，LCD光刻胶代替进展相对较快，而在半导体光刻胶范畴国产技能较国外先进技能距离最大。

3、光刻胶工业链概略

工业链上游：首要触及溶剂、树脂、光敏剂等原资料供货商和光刻机、显影机、检测与测验等设备供货商。从原资料商场来看，因为我国从事光刻胶原资料研制及出产的供货商较少，我国光刻胶原资料商场首要被日本、韩国和美国厂商所占有。

从设备商场来看，我国在光刻机、显影机、检测与测验设备职业的起步时刻较晚，且这些设备具有较高的制作工艺壁垒，导致我国在光刻胶、显影机、检测与测验设备的国产化程度均低于10%。

工业链中游：为光刻胶制作环节，当时全球光刻胶出产制作首要被日本JSR、信越化学、住友化学、东京应化、美国陶氏化学等制作商所独占，我国本乡企业在光刻胶商场的比例较低，与国外光刻胶制作商比较仍存显着距离。

工业链下流：首要触及半导体、平板显现器、PCB等范畴。随同消费晋级、使用终端产品更新迭代加速，下流使用范畴企业对半导体、平板显现和 PCB制作提出更加精细化的要求，将带动光刻胶职业持续开展。

4、半导体光刻工艺流程

光刻工艺历经硅片外表脱水烘烤、旋转涂胶、软烘、曝光、曝光后烘烤、显影、坚膜烘烤、显影查看等工序。在光刻过程中，光刻胶被均匀涂布在衬底上，经过曝光、显影与刻蚀等工艺，将掩膜版上的图形转移到衬底上，构成与掩膜版彻底对应的几何图形。

光刻工艺约占整个芯片制作本钱的35%，耗时占整个芯片工艺的40-50%，是半导体制作中最中心的工艺。

5、半导体光刻胶商场规模

跟着半导体制程不断缩小，光刻工艺对光刻胶要求逐步提高，需求量也随之添加。从全球商场来看，专心电子资料商场研讨的TECHCET猜测数据显现，2024年全球半导体制作光刻胶商场规模将同比添加11%，到达19亿美元。

从我国状况来看，依据浙商证券估计，2024年我国大陆半导体光刻胶商场空间挨近55亿元，其间ArF（干/湿）和KrF光刻胶在我国商场空间别离约为22.55亿元和12.1亿元，其间ArF（干/湿）占比将到达40%。

6、半导体光刻胶竞赛格式

1）全球半导体光刻胶竞赛格式

依据2024年数据，全球半导体光刻胶前五大厂商占有全球光刻胶商场87%比例。其间日本占有四家，别离是JSR、东京应化(TOK)、信越化学与富士电子资料，这四家的商场比例到达72%，商场会集度显着。

在半导体光刻胶细分范畴，日本厂商在高端商场具有较强话语权。

（1） g/i线光刻胶商场：日本的东京应化、JSR、住友化学和富士胶片别离占有26%、15%、15%、8%的比例，在全球商场占有64%比例。

（2）KrF光刻胶商场：日本龙头企业东京应化、信越化学和JSR在全球KrF光刻胶细分商场别离占有 34%、22%和18%比例，算计占比到达74%。

（3）ArF光刻胶商场：日本龙头企业JSR、信越化学、东京应化和住友化学包办前四，别离占有全球 ArF 光刻胶细分商场 25%、23%、20%和15%商场比例，算计商场比例到达83%。

（4）EUV光刻胶商场：最先进的EUV光刻胶范畴彻底被日本企业所主导，日本JSR、东京应化、信越化学成为EUV光刻胶商场可完成量产的厂商。现在引进EUV工艺的仅有三星电子和台积电两家公司。

2）我国半导体光刻胶竞赛格式

受制于国内光刻胶技能开展水平，现在我国高端光刻胶的自给率依然坚持较低水平。虽然国内光刻胶商场坚持杰出的添加趋势，但以KrF、ArF光刻胶为代表的半导体光刻胶范畴国内商场比例依然较小，高端光刻胶商场长时间为国外巨子所独占。

从技能水平来看，现在我国本乡光刻胶的全体技能水平与国际先进水平存在显着距离，且首要会集在技能含量较低的PCB光刻胶范畴，而在半导体光刻胶和LCD光刻胶方面自给率较低。

详细而言，半导体光刻胶中g线/i线光刻胶国产化率为10%，而ArF/KrF光刻胶的国产化率仅为1%，关于最高端的EUV光刻胶现在仍处于研制阶段。

现在国内从事半导体光刻胶研制和出产的企业包含晶瑞股份、南大光电、上海新阳、北京科华等。相关企业以i 线、g线光刻胶出产为主，使用集成电路制程为350nm。在KrF光刻胶范畴，北京科华、博康已完成量产。

国内涵ArF光刻胶范畴工业化进程相对较快的企业为南大光电，其先后承当国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品要害技能研制项目”和“ArF光刻胶产品的开发和工业化项目”。

公司自主研制的ArF光刻胶产品成为国内经过客户验证的榜首只国产ArF光刻胶，其他国内企业尚处于研制和验证阶段。

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